Ȩ > ÀڷḶ´ç > ÀÚ·á°Ë»ö > Ç¥ÁØ
ÀÚ·á °Ë»ö°á°ú
| Ç¥ÁØÁ¾·ù | Á¤º¸Åë½Å´ÜüǥÁØ(TTAS) | ||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Ç¥ÁعøÈ£ | TTAK.KO-10.0574 | ±¸ Ç¥ÁعøÈ£ | |||||||||||||||
| Á¦°³Á¤ÀÏ | 2012-10-09 | ÃÑ ÆäÀÌÁö | 18 | ||||||||||||||
| ÇÑ±Û Ç¥Áظí | ¹ÝµµÃ¼ µµ±Ý ÀåÄ¡ÀÇ ¸ðµ¨¸í Ç¥±â¹ý | ||||||||||||||||
| ¿µ¹® Ç¥Áظí | Marking Method of Model Name for Semiconductor Plating System | ||||||||||||||||
| ÇÑ±Û ³»¿ë¿ä¾à | µµ±Ý Àåºñ ¸ðµ¨ Ç¥±â¹ýÀ» Ç¥ÁØÈÇÏ¿© ¸ðµ¨¸í¿¡ Àåºñ¿¡¼ Àΰ¡ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Á÷·ùÀü¿øÀÇ Á¾·ù¸¦ Á¦°øÇÔÀ¸·Î ½á Àåºñ ±¸¸Å½Ã¿¡´Â Á¤È®ÇÏ°í ºü¸£°Ô Àåºñ¸¦ ¼±ÅÃÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô Çϸç Àåºñ »ç¿ë ½Ã¿¡´Â Àû ¿ëÇÒ Àü·ù Á¾·ù¸¦ ºü¸£°Ô ¼±ÅÃÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¹æ¹ýÀ» Á¦°øÇϰíÀÚ ÇÑ´Ù. | ||||||||||||||||
| ¿µ¹® ³»¿ë¿ä¾à | This standard offer the guide line of marking method of model name of semiconductor plating system for finding right wanted direct currents easily. | ||||||||||||||||
| °ü·Ã IPR È®¾à¼ | Á¢¼öµÈ IPR È®¾à¼ ¾øÀ½ | ||||||||||||||||
| °ü·ÃÆÄÀÏ |
|
||||||||||||||||
| Ç¥ÁØÀÌ·Â |
|
||||||||||||||||
| Ç¥ÁØÀ¯Áöº¸¼öÀÌ·Â |
|
||||||||||||||||

