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Ç¥ÁعøÈ£ TTAK.KO-10.0448 ±¸Ç¥ÁعøÈ£
Á¦°³Á¤ÀÏ 2010-12-23 ÃÑÆäÀÌÁö 0
ÇѱÛÇ¥Áظí Á¤Àü¿ë·®Çü MEMS ¸¶ÀÌÅ©·ÎÆùÀÇ ¿þÀÌÆÛ »ó¿¡¼­ ¿­Àû º¯Çü Ư¼º Æò°¡ ¹æ¹ý
¿µ¹®Ç¥Áظí A characterization method for a thermal deformation on a wafer in a capacitive MEMS microphone
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¿µ¹®³»¿ë¿ä¾à This standard specifies a basic standard of a characterization process for a thermal deformation on a wafer in a capacitive MEMS microphone at a thermal process. A thin membrane, which is exposed to a thermal energy through a substrate heated above 200oC in a high temperature thermal step, can be deformed. Also, this standard secures mutual linkages of international standards and group standards.
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°ü·ÃÆÄÀÏ TTAK.KO-10.0448.zip TTAK.KO-10.0448.zip            

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